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  • 菱角钢砂主要是由铸钢丸破碎后在经过回火和筛选封装而成。与传统的钢砂相比硬度适中、韧性强、抗冲击,可连续几次反复使用,寿命长,反弹性好,附着力强,清理速度快耗砂低,不破碎,清理工件亮度大,技术,经处理的金属表面清洁度可达国际标准。表面粗糙度达25--100um,从而增加了金属表面的接触面,提高了涂抹的表面附着
    3500.00
      
  • 产品名称:铸钢丸(steel shot)产品类别:铸钢丸产品规格:S70-S930产品描述:S-780 S-660大型铸铁、铸钢、铸铁管、大型锻件、热处理件的清砂、除锈S-550 S-460大型、中型铸铁、铸钢、锻造件、热处理件、钢板、钢管的清砂、除锈、强化、成型S-390S280小型铸铁、小型铸造品、热处理品、铸铝、钢板、铸铜合金、镀金之前处理,
    3400.00
      
  • 产品名称:铸钢丸(steel shot)产品类别:铸钢丸产品规格:S70-S930产品描述:S-780 S-660大型铸铁、铸钢、铸铁管、大型锻件、热处理件的清砂、除锈S-550 S-460大型、中型铸铁、铸钢、锻造件、热处理件、钢板、钢管的清砂、除锈、强化、成型S-390S280小型铸铁、小型铸造品、热处理品、铸铝、钢板、铸铜合金、镀金之前处理,
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    3400.00
      
  • 用途: 采用剥下的轮胎钢丝或旧钢丝绳等裁切而成,是用于抛丸机、抛丸设备、喷丸设备、喷砂机、钢材预处理生产线、钢板预处理生产线、钢结构预处理生产线的磨料。主要化学成分:碳C锰Mn硅Si硫S磷P铬Cr镍Ni0.45-0.850.40-1.200.10-0.30≤0.04≤0.04≤0.25≤0.25规格:直径0.8mm—2.5mm平均硬度:40-55HRC
    3400.00
      
  • 菱角钢砂主要是由铸钢丸破碎后在经过回火和筛选封装而成。与传统的钢砂相比硬度适中、韧性强、抗冲击,可连续几次反复使用,寿命长,反弹性好,附着力强,清理速度快耗砂低,不破碎,清理工件亮度大,技术,经处理的金属表面清洁度可达国际标准。表面粗糙度达25--100um,从而增加了金属表面的接触面,提高了涂抹的表面附着
    3500.00
      
  • 产品名称:铸钢丸(steel shot)产品类别:铸钢丸产品规格:S70-S930产品描述:S-780 S-660大型铸铁、铸钢、铸铁管、大型锻件、热处理件的清砂、除锈S-550 S-460大型、中型铸铁、铸钢、锻造件、热处理件、钢板、钢管的清砂、除锈、强化、成型S-390S280小型铸铁、小型铸造品、热处理品、铸铝、钢板、铸铜合金、镀金之前处理,
    3400.00
      
  • 产品名称:铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,停工件表面光滑
    8.00
     
  • 产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工
    8.00
     
  • SiC碳化硅衬底研磨抛光产品产品分类:吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点:吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料
    8.00
     
  • 精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液产品名称:陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液精密陶瓷抛光液作用:吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点:吉致可提供各陶瓷
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——手机抛光液 金属抛光液 镜面抛光液 logo抛光液 3C抛光液产品简介:为金属模具及电子器件、金属边框抛光、金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。适用于手机钛合金件研磨抛光液/铝合金件研磨抛光液/镁合金件研磨抛光液/不锈钢研磨抛光液吉致电子CMP抛光液大大提高了手机金属
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——不锈钢抛光液 金属抛光液 镜面抛光液产品简介:为不锈钢模具及电子器件、不锈钢手机边框、手机金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了不锈钢工件表面去除率和平坦化性能适用范围:不锈钢材质粗抛/中抛/镜面抛光工序,并根据不锈钢工件型的不同配套有相
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——半导体抛光液、铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液、铌酸锂晶体抛光液、铌酸锂抛光浆料、LN抛光液 、铌酸锂抛光液、铌酸锂晶圆抛光浆料、铌酸锂研磨抛光液、LN研磨液、铌酸锂lapping研磨抛光液、铌酸锂CMP抛光液、铌酸锂化学机械抛光液、铌酸锂抛光液厂家、铌酸锂研磨液厂家产品简介:为半导体行业/铌酸锂
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——玉石抛光液、玉石化学机械抛光液、玉石抛光浆料、玉石slurry、玉石表盘CMP抛光液、玉石悬浮液、玉石化学机械抛光液Slurry、手表抛光液、CMP抛光液、lapping研磨抛光液、化学机械抛光液我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛光液、CMP化学机械抛光液Slurry、CMP集成电路抛光液、手机logo slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——单晶金刚石抛光液/单晶研磨液/单晶金刚石悬浮液/单晶抛光液/单晶slurry/光学晶体抛光液/单晶CMP化学机械抛光液/吉致单晶金刚石抛光液/JEEZ单晶悬浮液磨料类型:人造金刚石磨料规格:单晶金刚石微粉磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子单晶金刚石研磨液/单晶金刚石悬浮液(又名单晶研磨液
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——多晶金刚石抛光液/多晶研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石抛光液/多晶抛光液/多晶slurry/吉致多晶金刚石抛光液/JEEZ多晶研磨液/多晶金刚石化学机械抛光液/多晶CMP化学机械抛光液slurry/多晶金刚石CMP集成电路抛光液磨料类型:人造金刚石磨料规格:多晶金刚石微粉(黑色)磨
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——类多晶金刚石抛光液/类多晶金刚石研磨液/类多晶抛光液/类多晶抛光浆料/类多晶slurry/类多晶研磨液/Diamind slurry/类多晶CMP抛光液/类多晶金刚石化学机械抛光液/类多晶金刚石Lapping研磨抛光液/类多晶金刚石抛光液厂家/类多晶研磨液厂家/类多晶抛光液抛光浆料Slurry磨料类型:人造金刚石磨料
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液/陶瓷覆铜板CMP研磨液产品简介:为半导体行业电子封装使用的陶瓷覆铜板、DBCDPC基板等配制的CMP研磨液及抛光液,适用于陶瓷覆铜板的粗抛及精抛流程。吉致电子陶瓷覆铜基板抛光液大大提高了工件表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的
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