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  • SiC碳化硅衬底研磨抛光产品产品分类:吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点:吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料
    8.00
     
  • T型槽试验平台厂家解读球墨铸件在不同领域的广泛应用T型槽试验平台质量主要包括机床铸件外观质量、T型槽试验平台内在质量和机床铸件使用质量。外观质量指机床铸件表面粗糙度、表面问题、尺寸偏差、形状偏差、重量偏差;内在质量主要指T型槽试验平台的化学成分、物理性能、机械性能、金相组织以及存在于机床铸件内部的孔洞、
    3622.00
    河北 沧州市

      
  • 无锡吉致电子25年研发生产——单晶金刚石抛光液/单晶研磨液/单晶金刚石悬浮液/单晶抛光液/单晶slurry/光学晶体抛光液/单晶CMP化学机械抛光液/吉致单晶金刚石抛光液/JEEZ单晶悬浮液磨料类型:人造金刚石磨料规格:单晶金刚石微粉磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子单晶金刚石研磨液/单晶金刚石悬浮液(又名单晶研磨
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——多晶金刚石抛光液/多晶研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石抛光液/多晶抛光液/多晶slurry/吉致多晶金刚石抛光液/JEEZ多晶研磨液/多晶金刚石化学机械抛光液/多晶CMP化学机械抛光液slurry/多晶金刚石CMP集成电路抛光液磨料类型:人造金刚石磨料规格:多晶金刚石微粉(黑色)磨
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——类多晶金刚石抛光液/类多晶金刚石研磨液/类多晶抛光液/类多晶抛光浆料/类多晶slurry/类多晶研磨液/Diamind slurry/类多晶CMP抛光液/类多晶金刚石化学机械抛光液/类多晶金刚石Lapping研磨抛光液/类多晶金刚石抛光液厂家/类多晶研磨液厂家/类多晶抛光液抛光浆料Slurry磨料类型:人造金刚石磨料规
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液/陶瓷覆铜板CMP研磨液产品简介:为半导体行业电子封装使用的陶瓷覆铜板、DBCDPC基板等配制的CMP研磨液及抛光液,适用于陶瓷覆铜板的粗抛及精抛流程。吉致电子陶瓷覆铜基板抛光液大大提高了工件表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介:为半导体行业/光学行业
    8.00
     
  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——抛光液,研磨液,金刚石抛光液,金刚石研磨液,单晶金刚石抛光液,单晶金刚石研磨液,聚晶金刚石抛光液,聚晶金刚石研磨液,多晶金刚石抛光液,多晶金刚石研磨液,Diamind slurry磨料类型:金刚石微粉磨料规格:单晶金刚石/多晶金刚石/类多晶金刚石/纳米级金刚石磨料粒径:全粒径可定
    8.00
     
  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——氧化铈抛光液,稀土抛光液,纳米氧化铈抛光液,氧化铈粗抛液,氧化铈精抛液磨料类型:氧化铈微粉/高纯纳米氧化铈磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子氧化铈抛光液纯度高,氧化铈含量比重高,分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。产品工艺及用途:
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——氧化铝抛光液,氧化铝研磨液,氧化铝悬浮抛光液,氧化铝粗抛液,氧化铝中抛液,氧化铝精抛液,氧化铝粗磨液,氧化铝中磨液,氧化铝精磨液,二氧化铝抛光液,三氧化二铝抛光液,氧化铝抛光浆料,纳米氧化铝抛光液,微米氧化铝抛光液磨料类型:氧化铝微粉/高纯纳米氧化铝磨料粒径:全粒径可定制
    8.00
     
  • 研磨平台——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平台上的磨料颗粒,通过研磨平台与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平台。研磨平台按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平台研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平台能保证高精度和表面洁度,在
    面议
     
  • 研磨平台——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平台上的磨料颗粒,通过研磨平台与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平台。研磨平台按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平台研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平台能保证高精度和表面洁度,在
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  • 研磨平板——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平板上的磨料颗粒,通过研磨平板与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平板。研磨平板按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平板研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平板能保证高精度和表面洁度,在
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  • 研磨平台——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平台上的磨料颗粒,通过研磨平台与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平台。研磨平台按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平台研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平台能保证高精度和表面洁度,在
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  • 研磨平板——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平板上的磨料颗粒,通过研磨平板与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平板。研磨平板按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平板研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平板能保证高精度和表面洁度,在
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  • 新款密封式制样粉碎机 制样研磨机 GJ系列粉碎机煤炭制样粉碎机 超细粉碎机 鹤壁中创生产企业 139.3926.8598GJ系列密封式制样粉碎机一、概述: 该机是我最新研制,操作简单、方便、安全。于粉碎研磨具有一定硬度的金属和非金属矿物,具有外型美观大方,结构紧凑,制样速度快,无粉尘污染,粉碎出的试样粒度均匀、细微等特点
    3500.00
      
  • 研磨平板——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平板上的磨料颗粒,通过研磨平板与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平板。研磨平板按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平板研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平板能保证高精度和表面洁度,在
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  • 研磨平板在研磨加工中有一种嵌有金刚砂磨料的平板上进行磨砂的形式,在这种形式中研具是主要工具。  研磨平板具有组织均匀、结构致密、无砂眼气孔、疏松等缺陷。上砂容易,砂粒分布均匀丰富,砂粒嵌入牢固切削性能强。表面光洁、油亮、呈天蓝色。  研磨平板用途:量具的、修理,制件研磨,机械零件,光学仪器的加工。 
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  • 研磨平台——是一种为了能够保证工件精度和表面光洁度而利用涂敷或压嵌在研磨平台上的磨料颗粒,通过研磨平台与工件在压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工而衍生的一种铸铁平台。研磨平台按照按JB/T7974-99标准,工作面用研磨工艺,用研磨平台研磨后的制件表面粗糙度Ra≤0.08μm。研磨平台能保证高精度和表面洁度,在
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