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  • 无锡吉致电子25年研发生产——不锈钢抛光液 金属抛光液 镜面抛光液产品简介:为不锈钢模具及电子器件、不锈钢手机边框、手机金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了不锈钢工件表面去除率和平坦化性能适用范围:不锈钢材质粗抛/中抛/镜面抛光工序,并根据不锈钢工件型的不同配套有相
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——半导体抛光液、铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液、铌酸锂晶体抛光液、铌酸锂抛光浆料、LN抛光液 、铌酸锂抛光液、铌酸锂晶圆抛光浆料、铌酸锂研磨抛光液、LN研磨液、铌酸锂lapping研磨抛光液、铌酸锂CMP抛光液、铌酸锂化学机械抛光液、铌酸锂抛光液厂家、铌酸锂研磨液厂家产品简介:为半导体行业/铌酸锂
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——玉石抛光液、玉石化学机械抛光液、玉石抛光浆料、玉石slurry、玉石表盘CMP抛光液、玉石悬浮液、玉石化学机械抛光液Slurry、手表抛光液、CMP抛光液、lapping研磨抛光液、化学机械抛光液我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛光液、CMP化学机械抛光液Slurry、CMP集成电路抛光液、手机logo slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——单晶金刚石抛光液/单晶研磨液/单晶金刚石悬浮液/单晶抛光液/单晶slurry/光学晶体抛光液/单晶CMP化学机械抛光液/吉致单晶金刚石抛光液/JEEZ单晶悬浮液磨料类型:人造金刚石磨料规格:单晶金刚石微粉磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子单晶金刚石研磨液/单晶金刚石悬浮液(又名单晶研磨液
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——多晶金刚石抛光液/多晶研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石抛光液/多晶抛光液/多晶slurry/吉致多晶金刚石抛光液/JEEZ多晶研磨液/多晶金刚石化学机械抛光液/多晶CMP化学机械抛光液slurry/多晶金刚石CMP集成电路抛光液磨料类型:人造金刚石磨料规格:多晶金刚石微粉(黑色)磨
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——类多晶金刚石抛光液/类多晶金刚石研磨液/类多晶抛光液/类多晶抛光浆料/类多晶slurry/类多晶研磨液/Diamind slurry/类多晶CMP抛光液/类多晶金刚石化学机械抛光液/类多晶金刚石Lapping研磨抛光液/类多晶金刚石抛光液厂家/类多晶研磨液厂家/类多晶抛光抛光浆料Slurry磨料类型:人造金刚石磨料规
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——TSV CMP CU Slurry/TSV铜化学机械抛光液/半导体cmp抛光液slurry/TSV Cu Slurry/铜抛光液/TSV硅通孔抛光液/TSV CU 抛光浆料TSV硅通孔的作用:提高集成度、降低功耗系统地集成数字电路、模拟电路。通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充实现硅通孔的垂直电气互连,用于3D封装TSV阻挡层化学
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——射频滤波器抛光液 /半导体抛光液 /CMP抛光液/CMP化学机械抛光液/射频滤波器Slurry/射频滤波器CMP化学机械抛光液Slurry/射频滤波器CMP集成电路抛光液/射频滤波器抛光抛光浆料Slurry产品名称:射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液产品简介:射频滤波器抛光液适用于集成电路当中的
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——浅槽隔离抛光液/STISlurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液/浅沟槽隔离Slurry/浅槽隔离研磨抛光液/STI浅槽隔离平坦化抛光液slurry/浅沟槽隔离抛光抛光浆料slurry/吉致电子STI抛光液产品简介:STISlurry适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速率,碟型凹陷
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产----硬质合金抛光液、硬质合金研磨液、金属抛光液、CMP镜面抛光液、Metal CMP Slurry、吉致电子CMP抛光液、slurry抛光液硬质合金抛光液作用:吉致电子硬质合金抛光液适用于硬度高韧性***的合金金属工件,通过CMP粗磨、细磨和抛光工序可得到理想镜面效果,合金金属研磨液具有易清洗、***等特
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产:金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光,钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介:为半导体行业/光学行业
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介:为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料,适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底的各个工艺阶段的规范,在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型:半导体cmp抛光液slurry磨料粒径:纳米级SiO2产品
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  • 产品分类:吉致电子·抛光垫产品名称:无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点:吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求,针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高***等优点。产品工艺及用途:特殊纤维结构高***的抛光材料,
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