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  • 吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光
    吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光，钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想
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  • 吉致JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    吉致JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业
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  • 吉致JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry
    吉致JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉
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  • 吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry
    吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使
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  • 吉致JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry
    吉致JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品
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  • 吉致JEEZ金刚石抛光液/研磨液/金刚石悬浮液/抛光液
    吉致JEEZ金刚石抛光液/研磨液/金刚石悬浮液/抛光液
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产——抛光液，研磨液，金刚石抛光液，金刚石研磨液，单晶金刚石抛光液，单晶金刚石研磨液，聚晶金刚石抛光液，聚晶金刚石研磨液，多晶金刚石抛光液，多晶金刚石研磨液，Diamind slurry磨料类型：金刚石微粉磨料规格：单晶金刚石/多晶金刚石/类多晶金刚石/纳米级金刚石磨料粒径：全粒径可定
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  • 吉致JEEZ氧化铈抛光液/氧化铈研磨液/稀土抛光液
    吉致JEEZ氧化铈抛光液/氧化铈研磨液/稀土抛光液
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产——氧化铈抛光液，稀土抛光液，纳米氧化铈抛光液，氧化铈粗抛液，氧化铈精抛液磨料类型：氧化铈微粉/高纯纳米氧化铈磨料粒径：全粒径可定制产品特点：吉致电子氧化铈抛光液纯度高，氧化铈含量比重高，分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。产品工艺及用途：
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  • 吉致JEEZ氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,二氧化硅抛光液
    吉致JEEZ氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,二氧化硅抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——氧化硅抛光液，硅溶胶抛光液，纳米硅溶胶抛光液，纳米氧化硅抛光液，氧化硅悬浮液，硅溶胶悬浮液，硅溶胶粗抛液，氧化硅粗抛液，氧化硅粗磨液，硅溶胶中抛液，氧化硅中抛液，氧化硅中磨液，硅溶胶精抛液，氧化硅精抛液，氧化硅精磨液，硅胶抛光液，Slurry,生产氧化硅抛光液，生产硅溶胶抛光液
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  • 吉致电子JEEZ氧化铝抛光液/氧化铝研磨液/氧化铝精抛液
    吉致电子JEEZ氧化铝抛光液/氧化铝研磨液/氧化铝精抛液
    无锡吉致电子25年研发生产——氧化铝抛光液，氧化铝研磨液，氧化铝悬浮抛光液，氧化铝粗抛液，氧化铝中抛液，氧化铝精抛液，氧化铝粗磨液，氧化铝中磨液，氧化铝精磨液，二氧化铝抛光液，三氧化二铝抛光液，氧化铝抛光浆料，纳米氧化铝抛光液，微米氧化铝抛光液磨料类型：氧化铝微粉/高纯纳米氧化铝磨料粒径：全粒径可定制
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  • 纳米二氧化硅抛光液
    纳米二氧化硅抛光液
    CAS#:14808-60-7分子式：SiO2 ，分子量：60.08 。我系列二氧化硅抛光产品均是以高纯二氧化硅粉为颜料生产的一种二氧化硅抛光液，应用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。技术指标型外观平均
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    宣城市晶纳环保科技有限公司
    安徽 宣城市

       
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  • 纳米氧化铈抛光液
    纳米氧化铈抛光液
    基本信息：CAS#：1306-38-3纳米氧化铈抛光液是我采用纳米分散工艺，将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中, 形成分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性液体。纳米氧化铈抛光液悬浮稳定性能好，颗粒均匀。技术指标：型外观粒径含量 %产品应用VK-Ce01W淡黄色乳液30nm20光学抛光VK-Ce02W淡黄色乳液50nm20光学抛光VK-Ce03W淡黄色
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    宣城市晶纳环保科技有限公司
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  • 不锈钢电解光亮剂3 304电解抛光液 抛光液光亮剂
    不锈钢电解光亮剂3 304电解抛光液 抛光液光亮剂
    不锈钢电解抛光添加剂3产品用途 1、不锈钢材质电化学抛光液的镜面光泽“光亮型添加剂”；2、适用于如下不锈钢材质：201、202、304、304L、316、316L、321、410、420、430等不锈钢或相近不锈钢；3、要求电解液中不含六价铬、三价铬、总铬，光亮的场合，添加本剂配合磷酸、硫酸使用，可无铬钝化； 性能特点 ●使用本剂配合磷
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    淄博倍尔科新型材料有限公司
    山东 淄博市

     
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  • 纳米级抛光液
    纳米级抛光液
    纳米级抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工元件产生刮伤的现象，特别适合用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英、
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    东莞市创力研磨科技有限公司
    广东 东莞市

      
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