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  • 吉致JEEZ半导体抛光液/铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
    吉致JEEZ半导体抛光液/铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——半导体抛光液、铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液、铌酸锂晶体抛光液、铌酸锂抛光浆料、LN抛光液 、铌酸锂抛光液、铌酸锂晶圆抛光浆料、铌酸锂研磨抛光液、LN研磨液、铌酸锂lapping研磨抛光液、铌酸锂CMP抛光液、铌酸锂化学机械抛光液、铌酸锂抛光液厂家、铌酸锂研磨液厂家产品简介：为半导体行业/铌酸锂
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  • 吉致JEEZ玉石抛光液/玉石表盘CMP抛光液/玉石抛光浆料
    吉致JEEZ玉石抛光液/玉石表盘CMP抛光液/玉石抛光浆料
    无锡吉致电子25年研发生产——玉石抛光液、玉石化学机械抛光液、玉石抛光浆料、玉石slurry、玉石表盘CMP抛光液、玉石悬浮液、玉石化学机械抛光液Slurry、手表抛光液、CMP抛光液、lapping研磨抛光液、化学机械抛光液我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中
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  • 吉致Apple Logo镜面抛光液/手机logo抛光液
    吉致Apple Logo镜面抛光液/手机logo抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛光液、CMP化学机械抛光液Slurry、CMP集成电路抛光液、手机logo slurry我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程
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  • 吉致电子JEEZ单晶金刚石抛光液/研磨液
    吉致电子JEEZ单晶金刚石抛光液/研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——单晶金刚石抛光液/单晶研磨液/单晶金刚石悬浮液/单晶抛光液/单晶slurry/光学晶体抛光液/单晶CMP化学机械抛光液/吉致单晶金刚石抛光液/JEEZ单晶悬浮液磨料类型：人造金刚石磨料规格：单晶金刚石微粉磨料粒径：全粒径可定制产品特点：吉致电子单晶金刚石研磨液/单晶金刚石悬浮液（又名单晶研磨液
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  • 吉致电子JEEZ多晶金刚石抛光液/研磨液
    吉致电子JEEZ多晶金刚石抛光液/研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——多晶金刚石抛光液/多晶研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石抛光液/多晶抛光液/多晶slurry/吉致多晶金刚石抛光液/JEEZ多晶研磨液/多晶金刚石化学机械抛光液/多晶CMP化学机械抛光液slurry/多晶金刚石CMP集成电路抛光液磨料类型：人造金刚石磨料规格：多晶金刚石微粉（黑色）磨
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  • 吉致电子JEEZ类多晶金刚石抛光液/研磨液
    吉致电子JEEZ类多晶金刚石抛光液/研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——类多晶金刚石抛光液/类多晶金刚石研磨液/类多晶抛光液/类多晶抛光浆料/类多晶slurry/类多晶研磨液/Diamind slurry/类多晶CMP抛光液/类多晶金刚石化学机械抛光液/类多晶金刚石Lapping研磨抛光液/类多晶金刚石抛光液厂家/类多晶研磨液厂家/类多晶抛光液抛光浆料Slurry磨料类型：人造金刚石磨料规
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  • 吉致JEEZ陶瓷覆铜板CMP研磨液/ DPC/DBC研磨液
    吉致JEEZ陶瓷覆铜板CMP研磨液/ DPC/DBC研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液/陶瓷覆铜板CMP研磨液产品简介：为半导体行业电子封装使用的陶瓷覆铜板、DBCDPC基板等配制的CMP研磨液及抛光液，适用于陶瓷覆铜板的粗抛及精抛流程。吉致电子陶瓷覆铜基板抛光液大大提高了工件表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的
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  • 吉致JEEZ TSV CMP CU Slurry 铜抛光液
    吉致JEEZ TSV CMP CU Slurry 铜抛光液
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产——TSV CMP CU Slurry/TSV铜化学机械抛光液/半导体cmp抛光液slurry/TSV Cu Slurry/铜抛光液/TSV硅通孔抛光液/TSV CU 抛光浆料TSV硅通孔的作用:提高集成度、降低功耗系统地集成数字电路、模拟电路。通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充实现硅通孔的垂直电气互连，用于3D封装TSV阻挡层化学
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  • 吉致JEEZ射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学抛光液
    吉致JEEZ射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——射频滤波器抛光液 /半导体抛光液 /CMP抛光液/CMP化学机械抛光液/射频滤波器Slurry/射频滤波器CMP化学机械抛光液Slurry/射频滤波器CMP集成电路抛光液/射频滤波器抛光液抛光浆料Slurry产品名称：射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液产品简介：射频滤波器抛光液适用于集成电路当中的
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  • 吉致JEEZ浅槽隔离抛光液/STI抛光液/浅沟槽隔离抛光液
    吉致JEEZ浅槽隔离抛光液/STI抛光液/浅沟槽隔离抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——浅槽隔离抛光液/STISlurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液/浅沟槽隔离Slurry/浅槽隔离研磨抛光液/STI浅槽隔离平坦化抛光液slurry/浅沟槽隔离抛光液抛光浆料slurry/吉致电子STI抛光液产品简介：STISlurry适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速率，碟型凹陷
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  • 吉致JEEZ硬质合金抛光液/金属抛光液/CMP镜面抛光液
    吉致JEEZ硬质合金抛光液/金属抛光液/CMP镜面抛光液
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产----硬质合金抛光液、硬质合金研磨液、金属抛光液、CMP镜面抛光液、Metal CMP Slurry、吉致电子CMP抛光液、slurry抛光液硬质合金抛光液作用:吉致电子硬质合金抛光液适用于硬度高韧性***的合金金属工件，通过CMP粗磨、细磨和抛光工序可得到理想镜面效果，合金金属研磨液具有易清洗、***等特
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  • 吉致JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液
    吉致JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液
    无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适
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  • 吉致JEEZ金属抛光液/液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光液
    吉致JEEZ金属抛光液/液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光液
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产：金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中
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  • 吉致JEEZ 钨抛光液/W 抛光液/半导体研磨液
    吉致JEEZ 钨抛光液/W 抛光液/半导体研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有
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  • 吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光
    吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光
    无锡吉致电子科技有限25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光，钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想
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  • 吉致JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    吉致JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业
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  • 吉致JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry
    吉致JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉
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  • 吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry
    吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使
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  • 吉致JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry
    吉致JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry
    无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品
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  • 吉致JEEZ无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫
    吉致JEEZ无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫
    产品分类：吉致电子·抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高***等优点。产品工艺及用途：特殊纤维结构高***的抛光材料，
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