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  • 产品名称:铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,停工件表面光滑
    8.00
     
  • 产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工
    8.00
     
  • SiC碳化硅衬底研磨抛光产品产品分类:吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点:吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料
    8.00
     
  • 精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液产品名称:陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液精密陶瓷抛光液作用:吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点:吉致可提供各陶瓷
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——手机抛光液 金属抛光液 镜面抛光液 logo抛光液 3C抛光液产品简介:为金属模具及电子器件、金属边框抛光、金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。适用于手机钛合金件研磨抛光液/铝合金件研磨抛光液/镁合金件研磨抛光液/不锈钢研磨抛光液吉致电子CMP抛光液大大提高了手机金属
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——不锈钢抛光液 金属抛光液 镜面抛光液产品简介:为不锈钢模具及电子器件、不锈钢手机边框、手机金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了不锈钢工件表面去除率和平坦化性能适用范围:不锈钢材质粗抛/中抛/镜面抛光工序,并根据不锈钢工件型的不同配套有相
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——半导体抛光液、铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液、铌酸锂晶体抛光液、铌酸锂抛光浆料、LN抛光液 、铌酸锂抛光液、铌酸锂晶圆抛光浆料、铌酸锂研磨抛光液、LN研磨液、铌酸锂lapping研磨抛光液、铌酸锂CMP抛光液、铌酸锂化学机械抛光液、铌酸锂抛光液厂家、铌酸锂研磨液厂家产品简介:为半导体行业/铌酸锂
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——玉石抛光液、玉石化学机械抛光液、玉石抛光浆料、玉石slurry、玉石表盘CMP抛光液、玉石悬浮液、玉石化学机械抛光液Slurry、手表抛光液、CMP抛光液、lapping研磨抛光液、化学机械抛光液我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛光液、CMP化学机械抛光液Slurry、CMP集成电路抛光液、手机logo slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——单晶金刚石抛光液/单晶研磨液/单晶金刚石悬浮液/单晶抛光液/单晶slurry/光学晶体抛光液/单晶CMP化学机械抛光液/吉致单晶金刚石抛光液/JEEZ单晶悬浮液磨料类型:人造金刚石磨料规格:单晶金刚石微粉磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子单晶金刚石研磨液/单晶金刚石悬浮液(又名单晶研磨液
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——多晶金刚石抛光液/多晶研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石研磨液/聚晶金刚石抛光液/多晶抛光液/多晶slurry/吉致多晶金刚石抛光液/JEEZ多晶研磨液/多晶金刚石化学机械抛光液/多晶CMP化学机械抛光液slurry/多晶金刚石CMP集成电路抛光液磨料类型:人造金刚石磨料规格:多晶金刚石微粉(黑色)磨
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——类多晶金刚石抛光液/类多晶金刚石研磨液/类多晶抛光液/类多晶抛光浆料/类多晶slurry/类多晶研磨液/Diamind slurry/类多晶CMP抛光液/类多晶金刚石化学机械抛光液/类多晶金刚石Lapping研磨抛光液/类多晶金刚石抛光液厂家/类多晶研磨液厂家/类多晶抛光液抛光浆料Slurry磨料类型:人造金刚石磨料规
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液/陶瓷覆铜板CMP研磨液产品简介:为半导体行业电子封装使用的陶瓷覆铜板、DBCDPC基板等配制的CMP研磨液及抛光液,适用于陶瓷覆铜板的粗抛及精抛流程。吉致电子陶瓷覆铜基板抛光液大大提高了工件表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——TSV CMP CU Slurry/TSV铜化学机械抛光液/半导体cmp抛光液slurry/TSV Cu Slurry/铜抛光液/TSV硅通孔抛光液/TSV CU 抛光浆料TSV硅通孔的作用:提高集成度、降低功耗系统地集成数字电路、模拟电路。通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充实现硅通孔的垂直电气互连,用于3D封装TSV阻挡层化学
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——射频滤波器抛光液 /半导体抛光液 /CMP抛光液/CMP化学机械抛光液/射频滤波器Slurry/射频滤波器CMP化学机械抛光液Slurry/射频滤波器CMP集成电路抛光液/射频滤波器抛光液抛光浆料Slurry产品名称:射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液产品简介:射频滤波器抛光液适用于集成电路当中的
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——浅槽隔离抛光液/STISlurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液/浅沟槽隔离Slurry/浅槽隔离研磨抛光液/STI浅槽隔离平坦化抛光液slurry/浅沟槽隔离抛光液抛光浆料slurry/吉致电子STI抛光液产品简介:STISlurry适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速率,碟型凹陷
    8.00
     
  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产----硬质合金抛光液、硬质合金研磨液、金属抛光液、CMP镜面抛光液、Metal CMP Slurry、吉致电子CMP抛光液、slurry抛光液硬质合金抛光液作用:吉致电子硬质合金抛光液适用于硬度高韧性***的合金金属工件,通过CMP粗磨、细磨和抛光工序可得到理想镜面效果,合金金属研磨液具有易清洗、***等特
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适
    8.00
     
  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产:金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中
    8.00
     
  • 无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有
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