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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光,钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介:为半导体行业/光学行业
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介:为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料,适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底的各个工艺阶段的规范,在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型:半导体cmp抛光液slurry磨料粒径:纳米级SiO2产品
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  • 产品分类:吉致电子·抛光垫产品名称:无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点:吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求,针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高***等优点。产品工艺及用途:特殊纤维结构高***的抛光材料,
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——抛光液,研磨液,金刚石抛光液,金刚石研磨液,单晶金刚石抛光液,单晶金刚石研磨液,聚晶金刚石抛光液,聚晶金刚石研磨液,多晶金刚石抛光液,多晶金刚石研磨液,Diamind slurry磨料类型:金刚石微粉磨料规格:单晶金刚石/多晶金刚石/类多晶金刚石/纳米级金刚石磨料粒径:全粒径可定
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  • 无锡吉致电子科技有限25年研发生产——氧化铈抛光液,稀土抛光液,纳米氧化铈抛光液,氧化铈粗抛液,氧化铈精抛液磨料类型:氧化铈微粉/高纯纳米氧化铈磨料粒径:全粒径可定制产品特点:吉致电子氧化铈抛光液纯度高,氧化铈含量比重高,分散性好、乳液均匀悬浮性好。切削能力强、抛光精度高、使用寿命长。产品工艺及用途:
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,纳米硅溶胶抛光液,纳米氧化硅抛光液,氧化硅悬浮液,硅溶胶悬浮液,硅溶胶粗抛液,氧化硅粗抛液,氧化硅粗磨液,硅溶胶中抛液,氧化硅中抛液,氧化硅中磨液,硅溶胶精抛液,氧化硅精抛液,氧化硅精磨液,硅胶抛光液,Slurry,生产氧化硅抛光液,生产硅溶胶抛光液
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  • 无锡吉致电子25年研发生产——氧化铝抛光液,氧化铝研磨液,氧化铝悬浮抛光液,氧化铝粗抛液,氧化铝中抛液,氧化铝精抛液,氧化铝粗磨液,氧化铝中磨液,氧化铝精磨液,二氧化铝抛光液,三氧化二铝抛光液,氧化铝抛光浆料,纳米氧化铝抛光液,微米氧化铝抛光液磨料类型:氧化铝微粉/高纯纳米氧化铝磨料粒径:全粒径可定制
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