一，高频超声清洗
对于像硅片表面小至零点几微米的超微污染粒子，常规的超声波清洗器无能为力，即使增加功率密度也无济于事。近来发展了一种兆赫兹级的高频超声清洗技术，由于频率高，空化效应已不起作用，因此清洗的关键不是气泡，是高频压力波的擦洗作用，其对污物的去除率接近百分之百。高频清洗近来发展较快，主要用于超大规模集成电路芯片的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷。光掩膜等特种污物的清洗。
二，聚焦式清洗
对于想纺织行业的喷丝板、过滤器之类微孔物件的清洗，常规的超声清洗效果十分不理想，声强达不到要求，而采用机械扫描聚焦式超声清洗，喷丝板微孔中的污物脱离则十分明显。聚焦式清洗要求达到高的声强，目前选用的频率以低频为主，常用20KHZ和15KHZ两种频率，个别的频率也有28KHZ的，其电功率在连续波情况下一般为500~700w，间隙脉冲工作状态下，功率可高一些。
三，多频清洗
即在一只清洗槽中，按装有两种或三种以上不同频率的换能器，由多只发生器分别推动各自频率的换能器。我们知道，清洗器工作频率高时，在液体中空化轻度底而空化密度大，而工作频率底时则相反。低频超声波的强度高，对物体表面清洗有利，高频超声波空化密度高，冲击波能穿达凹槽、细缝、深孔等细微结构。同时缸中有多种频率的超声波，也克服了单频清洗驻波场造成的清洗不均匀问题。
四，扫频和跳频清洗
扫频和跳频清洗都是为了改善槽中的声场结构，前者解决了槽中的不均匀驻波场，是清洗均匀。而跳频和多频一样兼顾到高低频清洗，不同的是跳频用的是一个换能器和一个发生器，其换能器本身有两个谐振频率，在第一谐振点带宽内作连续的频率变化，然后跳到另一带宽内进行扫频清洗，是高低频交替进行清洗。
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