电镀液的处理(三):难溶盐沉淀法

难溶盐沉淀法

此法是向镀液中加入适当的沉淀剂，使之与镀液中的有害杂质生成溶度积较小的难溶盐沉淀，然后过滤除去。 难溶盐沉淀法应用范围较广，它可以去除金属杂质，也可以去除有害的阴离子。例如：在氰化物镀液中，用硫化物去除铅杂质；用氢氧化钙或氢氧化钡去除Na2C03：

Pb2++S2-=PbS↓

Na2C03+Ca(OH)2=CaC03↓+2 NaOH

Na2C03+Ba(OH)2=BaC03↓+2 NaOH

在镀镍溶液中，用亚铁氰化钠去除铜杂质；用Fe3+去除PO43-杂质及用铅盐去除铬酸根杂质等：

2 Cu2++Na4[re(CN)6]=Cu2[Fe(CN)6]↓+4 Na+

PO43-+Fe3+=FeP04↓

Cr024一+Pb2-=PbCr04↓

在镀铬液中，用Ag2 C03去除Cl一及用BaC03去除过量的S02．一：

2 HCl+Ag2 C03=2 AgCl↓+C02↑+H2 0

H2 S04+BaC03=BaS04↓+C02↑+H2 O

在氨三乙酸一氯化铵镀锌液中，用磷酸盐去除铁杂质等：

Fe3++P034一=FeP04↓

沉淀处理时，一般应将镀液加热，以加快沉淀反应速度和增大沉淀颗粒，使之易于过滤。

在加入沉淀剂时，若还能与溶液中的主金属离子生成沉淀的话，那么处理时应强烈搅拌，以促使沉淀剂与杂质作用。沉淀剂加入量不宜太多，以避免主盐损失较多而增加处理费用。