箱式真空气氛炉提高冷却速度的方法

　　箱式真空气氛炉适用于工矿企业、大专院校、科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。可供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。

　　气氛炉是一种先进实验设备，适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备。主要用于材料试验、合成、烧结等。炉体保温性能良好，节能效果显着。气氛炉还可用于、复合材料、粉体材料、结构陶瓷、合金的真空热压烧结。

　　箱式真空气氛炉提高冷却速度有以下几种方法：

　　1、箱式真空气氛炉内通入氮气，带走烧结产品的热量。

　　2、箱式真空气氛炉底开孔和硅钼棒的冷端的缝隙形成气体对流，去除箱式炉内本身的热量。

　　3、循环风冷法，冷却的时候把充入炉内的氮气抽出来经过凝塔，再送入炉内，要注意氮气的泄漏，注意安全循环使用。

　　4、改造冷却的速度，提高相对的工作效率，是每个公司都需要的一种工作状态，也是一种精神面貌的提升，新方法就是运用在新的技术方面投入新的产品计划。