内容简介：类金刚石薄膜作为新型的薄膜材料，具有优异的红外光学、力学、电学、声学、热学等性能，具有广阔的应用范围。随着航空航天、红外技术；激光、光纤通信等高科技的发展，对红外光学材料提出了更高的要求。而目前使用的锗、硅、硫化锌、硒化锌等光学材料，已经不能满足要求，现在国际上十分重视类金刚石薄膜技术。类金刚石薄膜作为新一代的光学材料，它具有一系列优异性能：红外区透明、硬度高、耐磨擦、化学性能稳定、耐热冲击、热膨胀系数小等，能满足日益发展的军用及民用光学仪器的需要。用类金刚石薄膜作窗口保护膜及红外光学系统的红外增透膜及保护膜，有着十分广泛的应用前景。
采用脉冲真空电弧离子镀技术来镀制类金刚石薄膜，具有膜层性能稳定、3．4μm处无吸收峰、方法简单等优点。这一新技术我院拥有自主的知识产权。目前我们已在硅、锗基片上成功地镀制了类金刚石红外增透膜、保护膜，还为国内有关企业镀制了刀具涂层，经测定在3～5μm和8～12弘m区域平均透过率超过95％，膜层附着力好，耐磨、耐高低温、耐化学腐蚀。我们现可镀制类金刚膜，氮化钛、碳化钛、钼、钨、钽等膜，这些膜在红外光学、刀具、磁头保护、芯片保护、表面改性、润滑、装饰等领域有着广泛的应用。
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