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	吉致JEEZ硬质合金抛光液/金属抛光液/CMP镜面抛光液无锡吉致电子科技有限25年研发生产----硬质合金抛光液、硬质合金研磨液、金属抛光液、CMP镜面抛光液、Metal CMP Slurry、吉致电子CMP抛光液、slurry抛光液硬质合金抛光液作用:吉致电子硬质合金抛光液适用于硬度高韧性*的合金金属工件，通过CMP粗磨、细磨和抛光工序可得到理想镜面效果，合金金属研磨液具有易清洗、*等特	2023-06-27
	吉致JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适	2023-06-27
	吉致JEEZ金属抛光液/液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光液无锡吉致电子科技有限25年研发生产：金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点：1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中	2023-06-27
	吉致JEEZ 钨抛光液/W 抛光液/半导体研磨液无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有	2023-06-27
	吉致JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光无锡吉致电子科技有限25年研发生产——手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光，钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想	2023-06-27
	吉致JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业	2023-06-27
	吉致JEEZ晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry 无锡吉致电子25年研发生产——晶圆抛光液/磷化铟Inp Slurry CMP抛光液/磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMPSlurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉	2023-06-26
	吉致JEEZ碳化硅晶圆抛光液硅衬底抛光液 slurry 无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使	2023-06-26

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