抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料
产品价格8.00元/
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无锡吉致电子25年研发生产——氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,纳米硅溶胶抛光液,纳米氧化硅抛光液,氧化硅悬浮液,硅溶胶悬浮液,硅溶胶粗抛液,氧化硅粗抛液,氧化硅粗磨液,硅溶胶中抛液,氧化硅中抛液,氧化硅中磨液,硅溶胶精抛液,氧化硅精抛液,氧化硅精磨液,硅胶抛光液,Slurry,生产氧化硅抛光液,生产硅溶胶抛光液,氧化硅抛光液厂家,硅溶胶抛光液厂家
磨料类型:高纯纳米氧化硅微粒
产品特点:吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时,磨抛后工件呈现镜面效果,无划伤、高平坦。
产品工艺及用途:通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶,经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。
我司产品优点:
1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。
2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。
3.运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。
4.分散性好、乳液均一,程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度。
5.无粉尘产生,关注环保和人体健康安全。
可定制化:我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。
包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)
如有需要,欢迎致电李女士17706168670